Flüssiger und verlässlicher Autofokus des ZEISS Touit Objektivs für Fuji (X-Mount)

Das Design des Autofokussystems beim ZEISS Touit Objektivs für Fuji (X-Mount) erfordert eine äußerst genaue Verschiebung bestimmter Objektivgruppen. Abhängig von den zu verschiebenden Linsen(gruppen)gewichten lassen sich unterschiedliche Motorentypen einsetzen, welche beim ZEISS Touit Fuji (X-Mount) zum Einsatz kommen. Das Fokussiersystem der ZEISS Touit Objektive ist dabei so ausgelegt, dass keine Einschränkungen bzgl. des Optikdesigns vorgenommen werden musste. Beim ZEISS Touit Objektiv wird aber dennoch ein robuster und flüssiger Autofokusmechanismus garantiert .

ZEISS Touit für Fuji (X-Mount): Innovatives Objektiv-Produktdesign

Das ZEISS Touit Objektiv für Sony NEX (E-Mount) bedeutet innovatives Produktdesign für beste Bedienbarkeit und höchste ästhetische Ansprüche. Unter mehreren tausend eingereichten Produkten stehen die ZEISS Touit Objektive Fuji (X-Mount) unter den Gewinnern der etablierten Designpreise. Das unverwechselbare neue Produktdesign des ZEISS Touit basiert auf einem integrativen Konzept und ist auf wesentliche, funktionale Elemente reduziert. Selbst die Streulichtblende, sonst Zubehörteil, integriert sich nahtlos in die Gesamtform. Die Metallfassung des Touit Objektivs Fuji (X-Mount) garantiert hohe Stabilität, gummierte Einstellringe ermöglichen den gezielten manuellen Eingriff. Bündige, satinierte Flächen visualisieren die optische und mechanische Präzision der Objektive.

Asphärisches Design

Das asphärische Objektivdesign des ZEISS Touit für Fuji (X-Mount) sichert eine konsistente Abbildungsleistung über den gesamten Schärfenbereich sowie Darstellungsschärfe an der Bildperipherie. Das komplexere Oberflächenprofil der Asphäre des ZEISS Touit kann, im Vergleich zu einem einfachen Objektiv, sphärische Aberration reduzieren oder gar verhindern und weitere optische Aberrationen verringern.

ZEISS Touit für Fuji (X-Mount) Floating Elements Design

Moderne Kameratechniken und hoch auflösende digitale Bildsensoren fordern immer mehr Leistung von Objektiven, welche die ZEISS Touit Objektive für Fuji (X-Mount) bieten. Durch das moderne Floating Elements Design werden Abbildungsfehler der ZEISS Touit Objektive für Fuji (X-Mount) bei unterschiedlichen Entfernungseinstellungen kompensiert. Dies erfolgt beim ZEISS Touit Objektiv Fuji (X-Mount) durch Verändern des axialen Abstands einzelner Linsen oder Linsengruppen voneinander. Die Verstellung des Linsenabstands beim ZEISS Touit Objektiv ist dabei an die Entfernungseinstellung gekoppelt, so dass sich immer die richtige Korrektion ergibt. Der mechanische Aufbau dieser Linsen des ZEISS Touit Objektivs ist sehr komplex und die Verarbeitung muss besonders genau erfolgen. Beides sind Paradedisziplinen von ZEISS und ist beim ZEISS Touit Fuji (X-Mount) perfekt gelungen.

ZEISS T* Anti-Reflex-Beschichtung

Alle Linsenoberflächen der ZEISS Touit Objektiv für Fuji (X-Mount) sind mit der T*®-Anti-Reflex-Beschichtung und einem optischen Design ausgestattet, das auch bei ungünstigen Lichtverhältnissen brillante Bilder erzeugt. Zum Entspiegeln der Linsenoberflächen Touit Objektive von ZEISS dampfen wir auf deren Oberflächen sehr dünne transparente Schichten auf. Zu diesem Zweck werden im Hochvakuum spezielle Substanzen eine nach der anderen mit sehr hoher Energie verdampft, die sich anschließend auf der Glasoberfläche des ZEISS Touit Objektivs für Fuji (X-Mount) als Schichten mit präzise gesteuerten Dicken niederschlagen und die gewünschte Reflexminderung bewirken.

Zeiss Touit Objektive - für Fuji X-Mount

ZEISS hat mit seiner in Japan gefertigten Touit-Reihe für Fuji (X-Mount) wie gewohnt Wert auf beste Bildqualität, hohe Präzision sowie eine erstklassige Verarbeitung gelegt.

Die ZEISS Touit Objektive für Fuji (X-Mount) bieten durch die Kombination aus einem der extremsten Bildwinkel im APS-C Bereich, enormer Abbildungsleistung und leichtem Gewicht mehr Spaß, weitwinklige Motive einzufangen.